MRI skeny detekují „rez mozku“ u pacientů se schizofrenií

Nový výzkum objevil, že škodlivá chemická nerovnováha v mozku může přispívat k schizofrenii.

Pomocí nového druhu měření MRI neurologové uváděli vyšší hladiny oxidačního stresu u pacientů se schizofrenií ve srovnání se zdravými jedinci i s bipolární poruchou.

"Intenzivní energetické nároky na mozkové buňky vedou k akumulaci vysoce reaktivních druhů kyslíku, jako jsou volné radikály a peroxid vodíku," uvedl vedoucí vyšetřovatel studie Dr. Fei Du, odborný asistent psychiatrie na Harvardské lékařské fakultě.

U schizofrenie se předpokládá, že nadměrná oxidace, která zahrnuje stejný typ chemické reakce, která způsobí korozi kovu na rez, způsobuje zánět a poškození buněk. Měření tohoto procesu v živém lidském mozku však bylo výzvou.

Du a jeho kolegové v nemocnici McLean měřili oxidační stres pomocí nové techniky magnetické rezonanční spektroskopie. Tato technika využívá MRI skenery k neinvazivnímu měření mozkových koncentrací dvou molekul, NAD + a NADH, které poskytují údaje o tom, jak dobře je mozek schopen tlumit nadměrné množství oxidantů.

U 21 pacientů s chronickou schizofrenií pozoroval Du 53% zvýšení NADH ve srovnání se zdravými jedinci podobného věku.

Podobný stupeň zvýšení NADH byl pozorován u nově diagnostikované schizofrenie, což naznačuje, že podle výzkumníků je přítomna oxidační nerovnováha i v raných stadiích nemoci.

Mírnější zvýšení NADH bylo pozorováno také u bipolární poruchy, která sdílí určité genetické a klinické překrývání se schizofrenií.

Kromě toho, že toto zjištění nabízí nové poznatky o biologii schizofrenie, poskytuje podle Du také potenciální způsob, jak otestovat účinnost nových intervencí.

"Doufáme, že tato práce povede k novým strategiím na ochranu mozku před oxidačním stresem a zlepšení funkce mozku u schizofrenie," uvedl.

Výzkum byl představen na výročním zasedání American College of Neuropsychopharmacology 2016 v Hollywoodu na Floridě.

Zdroj: American College of Neuropsychopharmacology